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  1. 学位論文
  2. 課程博士
  3. 2010-2019年

窒化物半導体-シリコン異種ウエハ接合を用いた高密度光電子集積回路の基盤技術

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名前 / ファイル ライセンス アクション
k766.pdf k766 (10.3 MB)
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Item type 学位論文 / Thesis or Dissertation(1)
公開日 2017-07-27
タイトル
タイトル 窒化物半導体-シリコン異種ウエハ接合を用いた高密度光電子集積回路の基盤技術
タイトル
言語 en
タイトル Monolithic Fabrication Processing of Large-Scale Optoelectronic Integrated Circuits using Si/SiO2/Ⅲ-Nitride Wafe
言語
言語 jpn
資源タイプ
資源タイプ doctoral thesis
アクセス権
アクセス権 open access
著者 土山, 和晃

× 土山, 和晃

WEKO 3820

土山, 和晃

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学位名
学位名 博士(工学)
学位授与機関
学位授与機関識別子 13904
学位授与機関名 豊橋技術科学大学
学位授与年月日
学位授与年月日 2017-03-23
学位授与番号
学位授与番号 甲第766号
関連サイト
識別子タイプ URI
関連識別子 https://www.tut.ac.jp/university/docs/abstk766.pdf
関連名称 TUT博士論文要旨
著者版フラグ
出版タイプ VoR
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Ver.1 2023-06-19 07:39:35.978451
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