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アイテム
⼆次電池⽤セラミックス材料の薄膜・厚膜化技術へのAD 法の適⽤検討
https://repo.lib.tut.ac.jp/records/2174
https://repo.lib.tut.ac.jp/records/2174a5222ef1-2426-40e0-99ce-bcfdf3655143
| 名前 / ファイル | ライセンス | アクション |
|---|---|---|
jvsssp166-28.pdf (3.2 MB)
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.png)
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| Item type | 会議発表論文 / Conference Paper(1) | |||||
|---|---|---|---|---|---|---|
| 公開日 | 2021-04-08 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | ⼆次電池⽤セラミックス材料の薄膜・厚膜化技術へのAD 法の適⽤検討 | |||||
| タイトル | ||||||
| タイトル | Application of AD method to film fabrication process of functional | |||||
| 言語 | en | |||||
| 言語 | ||||||
| 言語 | jpn | |||||
| 資源タイプ | ||||||
| 資源タイプ識別子 | http://purl.org/coar/resource_type/c_5794 | |||||
| 資源タイプ | conference paper | |||||
| 著者 |
稲田, 亮史
× 稲田, 亮史 |
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| 著者(英） |
Inada, Ryoji
× Inada, Ryoji |
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| 書誌情報 |
日本表面真空学会 スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会第166回定例研究会講演予稿資料 p. 28-37, 発行日 2021-03 |
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| 権利 | ||||||
| 権利情報 | 著作権：著者 | |||||
| 関連サイト | ||||||
| 識別子タイプ | URI | |||||
| 関連識別子 | https://www.jvss.jp/jpn/activities/40/detail.php?eid=00005 | |||||
| 関連名称 | スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会(SP部会)第166回定例研究会 | |||||
| 著者版フラグ | ||||||
| 出版タイプ | AM | |||||
| 出版タイプResource | http://purl.org/coar/version/c_ab4af688f83e57aa | |||||
